櫃式主機搭配清洗作業平台與控制模組，適合整合於雷射清洗站、自動上下料系統或產線節拍流程中，強化製程一致性與效率。
內建製程資料庫，最多可儲存50 組清洗參數組合，對應不同材質與污染情境，減少人工設定誤差，適合多批次作業管理。
整合式L 型水冷模組與螢幕溫控顯示器，強化熱源控制與設備穩定性，確保機台於高溫環境下仍可穩定運行。
清洗頭配備數位焦距顯示器，可即時掌握雷射聚焦距離，提升細部處理的穩定性與清潔一致性，適合精密表面加工。
搭載密封式清洗頭、吹塵氣簾與氣水分離器，有效阻隔粉塵與油氣對光學模組的侵蝕，降低維護頻率與停機風險。
可伸縮式觸控操作螢幕設計，部署後可收納於機體內部，降低撞擊損壞風險，提升設備整潔性與工位空間利用率。
了解設備實際運作流程與操作方式
| 項目 | YH-WAC300W | YH-WAC500W |
|---|---|---|
| 雷射波長 | 1064 ～ 1070nm | |
| 雷射功率 | 300W | 500W |
| 脈衝能量 | 1.5 / 5 / 15mj | 2 / 5 / 15mj |
| 頻率範圍 | 1 ～ 4000KHz | |
| 清洗範圍 | 105 / 140 / 160 / 330 / 420 mm（選配） | |
| 清洗寬度 | 105 ～ 300 mm | |
| 掃描速度 | 20000 mm/s | |
| 清洗模式 | 9種清洗模式 | |
| 冷卻方式 | 風冷 / 水冷 | |
| 機體尺寸（±3%） | 長970 × 寬595 × 高825 mm | |
| 機體重量（±3%） | 125kg | 135kg |
| 功率消耗 | <2500W / 220V | <4500W / 220V |
| 標配 | 護目鏡 | |
